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    CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
    CVD真空氣相鍍膜
    CVD真空氣相鍍膜
    CVD真空氣相沉積技術(shù)工藝原理

    真空化學(xué)氣相沉積工藝(Chemical Vapor Deposition,英文簡(jiǎn)稱(chēng)CVD), 俗稱(chēng):真空氣相鍍膜,納米鍍膜或派瑞林鍍膜。是一種把含有構成薄膜元素的長(cháng)鏈性高分子材料(派瑞林Parylene等)、單質(zhì)氣體經(jīng)過(guò)升華、熱解后進(jìn)入放置產(chǎn)品的真空反應室,借助空間氣相化學(xué)反應并在產(chǎn)品表面上沉積生成的0.1-100um薄膜涂層的工藝技術(shù)。薄膜涂層厚度均勻,致密無(wú)針孔、透明無(wú)應力、不含助劑、不損傷產(chǎn)品、有優(yōu)異的電絕緣性和防護性,是當代最有效的防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料。   

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    CVD化學(xué)氣相沉積流程

    隨著(zhù)時(shí)代的發(fā)展,電子產(chǎn)品技術(shù)的不斷革新。高新技術(shù)與智能化的發(fā)展,精密的電子設備元件需要適應各種惡劣的工作環(huán)境,達到工業(yè)對其更高的要求:高可靠,小型化,抗干擾等等。因此,電子零部件的環(huán)境適應性和防護力就成了重中之重。

    LPMS為適應現有市場(chǎng)需求, 通過(guò)開(kāi)發(fā)創(chuàng )新,成功的將派瑞林鍍膜技術(shù)運用到電子產(chǎn)品行業(yè)。我們在材料、工藝和設備方面的專(zhuān)有技術(shù)使我們能夠為客戶(hù)帶來(lái)高質(zhì)量的超薄與納米級保形涂層,其成就在行業(yè)得到認可。

    CVD真空氣相沉積工藝特點(diǎn)
                 
    • 生物相容性(用于各種植入物和其他醫療器械),符合FDA(ClassVI).符合美軍標MIL I-46058C。


    • 納米涂層滲透力強,360度無(wú)死角,可滲入SMD器件底部,全方位覆蓋PCB和電子元件器,涂層完整、連續、無(wú)針孔、厚度均勻。


    • 具有高介電強度和低介電常數,超薄的絕緣層,能耐高電壓。


    • 室溫下生成納米鍍膜層,對涂覆敏感部件沒(méi)有熱應力。


    • 疏水薄膜,表面能量低,良好的干膜潤滑性。

                 
    • 高度共形 - 可在尖角上覆膜并穿透小毛孔,不會(huì )形成彎月面,也不會(huì )聚集或遮擋精細的圖形。


    • 涂層化學(xué)惰性(無(wú)反應性),具有很高的耐化學(xué)性(酸堿鹽,溶劑)及極端的耐高低溫性(-60°C至200°C)


    • 透氣性非常低,不含針孔,防潮防水性(可達IP68)。


    • 抗輻射,可用于航空航天及γ射線(xiàn)和電子束滅菌。


    • 光學(xué)透明,無(wú)色??捎糜谏瞎鈱W(xué)元件和照明無(wú)件。

    涂層可以承受極端高低溫
    -60℃ 0℃ 60℃ 120℃ 180℃
    -60~200℃
    涂層可以承受極端高低溫(-60°C至200°C)
    CVD真空氣相沉積工藝與三防漆工藝對比

    CVD派瑞林真空氣相沉積工藝鍍膜后產(chǎn)品表面化學(xué)純度高,鍍膜均勻,無(wú)小孔,無(wú)氣泡,不會(huì )脫落,無(wú)熱應力。

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    我們能為您做什么?

    針對客戶(hù)具體項目,進(jìn)行項目評估、提供專(zhuān)業(yè)可行的CVD(派瑞林parylene)真空氣相沉積工藝解決方案,以及納米涂層加工服務(wù)(打樣測試或大批量加工生產(chǎn))。

    根據客戶(hù)技術(shù)要求提供CVD真空氣相沉積工藝所需的Parylene派瑞林粉體,并給于專(zhuān)業(yè)的技術(shù)指導;

    為有需要的客戶(hù)提供有針對性設計的CVD(派瑞林parylene)真空氣相沉積工藝設備(真空氣相沉積鍍膜機、真空脫氣爐等相關(guān)設備)。

    CVD真空氣相沉積工藝應用

           CVD派瑞林鍍膜廣泛用于航空航天、電路板、LED 、磁性材料、傳感器、硅橡膠、密封件、醫療器械、珍貴文物等領(lǐng)域。CVD派瑞林鍍膜后的電子產(chǎn)品具有極高的絕緣強度和耐高低溫(-60至200度)、抗腐蝕、耐酸堿、潤滑、防塵、防潮、防銹、透明、防水(最高可達IP68)、抗老化、生物兼容性等。

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    CVD真空氣相沉積設備
    我們專(zhuān)業(yè)設計、制造和銷(xiāo)售各種類(lèi)型和規格的CVD真空鍍模設備,如真空氣相沉積涂層機(派瑞林鍍膜機)、真空脫氣爐等。
    CVD真空氣相沉積產(chǎn)品代加工

         LPMS擁用標準的真空氣相鍍膜車(chē)間和10多臺CVD真空氣相沉積設備,可為客戶(hù)提供CVD真空氣相沉積納米級涂層的打樣測試或大批量生產(chǎn)代加工服務(wù)。同時(shí)也可提供包括產(chǎn)品的從SMT表面黏著(zhù)、DIP插件、無(wú)鉛制程、焊接加工、低壓注塑/點(diǎn)膠、真空氣相鍍膜、產(chǎn)品測試、成品包裝的全程代工代料服務(wù),亦也可為客戶(hù)提供新產(chǎn)品開(kāi)發(fā)服務(wù)。

    真空氣相沉積材料

          CVD真空氣相沉積工藝所使用的是一種保護性長(cháng)鏈性高分子材料(中文名:派瑞林、聚對二甲苯、英文名:Parylene),它可在真空下氣相沉積,活性分子的良好穿透力能在元件內部、底部,周?chē)纬蔁o(wú)針孔,并厚度均勻的透明絕緣涂層,給元件提供了一個(gè)完整的優(yōu)質(zhì)防護涂層,抵御酸堿、鹽霧、霉菌及各種腐蝕性氣件的侵害,因為所使用的不是液體,所以涂敷過(guò)程中不會(huì )聚集,橋接式形成彎月面。

          Parylene派瑞林高分子材料根據分子結構可分為: N、C、 D、F、HT等多種 類(lèi)型。我們可根據客戶(hù)技術(shù)要求與產(chǎn)品提供CVD真空氣相沉積工藝所需的Parylene派瑞林粉體與原料,并給于專(zhuān)業(yè)的技術(shù)指導。

    派瑞林牌號

    成膜特性

    CAT

    N粉

    CAT

    C粉

    CAT

    D粉

    CAT

    F(VT4)粉

    CAT

    AF4(HT)粉

    密度(gm/cc)

    1.1

    1.3

    1.41

    1.55

    1.5

    介電常數(1Mhz)

    2.6

    2.9

    2.8

    2.3

    2.2

    介電強度(V/Mil)

    7000

    5600

    5500

    5000

    7000

    最低持續工作溫度(空氣中)

    -60°C

    -60°C

    -60°C

    -60°C

    -60°C

    最高持續工作溫度(空氣中)

    60°C

    80°C

    110°C

    200°C

    300°C

    摩擦系數-動(dòng)態(tài)

    0.25

    0.29

    0.38

    0.39

    0.16

    線(xiàn)性膨脹系數(ppm at 25°C)

    69

    35

    38

    45

    34

    吸水性(24H后)

    <% 0.1

    <% 0.1

    <% 0.1

    <% 0.1

    <% 0.1

    水蒸氣透過(guò)率(gm.mm)/m2.day)

    0.6

    0.08-0.1

    0.1

    0.25-0.32

    0.2

    氧氣穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm)

    16

    3

    12.0-13.5

    16.8

    25.3

    視頻
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